올해 단기교육강좌는 6월 26일(월)부터 6월 30일(금)까지 부산 센텀프리미어 호텔에서 대면 및 비대면 하이브리드 형식으로 개최됩니다. 기존 수강생분들과 연사분들의 의견을 수렴하여 2개의 교육강좌를 추가 개설하였고, 강좌별 난이도와 연관성을 고려하여 시간표를 새롭게 작성하였습니다.

첫째 날 “광리소그래피”와 “포토마스크기술”에 대한 입문 강의를 통해 리소그래피 기술의 기초와 핵심을 파악하실 수 있으며, 둘째 날 “반도체 소자 및 공정기술”과 “메모리 반도체 Shrink 대응 패터닝 전략”에 대한 강의를 통해 반도체 소자 및 패터닝 기술의 역사, 개발 현황 그리고 향후 발전 방향에 대한 유익한 정보를 얻으실 수 있습니다. 셋째 날 ”포토레지스트의 원리 및 기술 동향”과 ”리소그래피 공정 및 공정별 핵심 Material”에 대한 강의에서는 포토레지스트를 포함한 다양한 패터닝 Material의 기초와 실전적 활용에 대해 심도있게 소개할 예정이며, 넷째 날 ”극자외선 노광기술”과 “머신 러닝 기술을 이용한 계산 리소그래피”에 대한 강의에서는 최근 큰 주목을 받고 있는 두 첨단 기술(EUV, Machine Learning)의 리소그래피 적용에 대해 친절하면서도 깊이 있게 다룰 계획입니다. 마지막 다섯째 날 “MI 엔지니어를 위한 광학” 강의에서는 리소그래피 및 MI 프로세스에 대한 광학 이론(기하광학, 파동광학, 푸리에광학, 박막광학, 조명광학 등)과 최신 MI 기술에 대해 체계적으로 살펴보실 수 있습니다.

저희 차세대 리소그래피 단기교육강좌가 리소그래피 기술에 대한 많은 분들의 궁금증을 해소하고 K-반도체 산업의 발전에 기여하여 우리나라가 종합반도체 강국으로 도약하는데 일조할 수 있기를 기대합니다. 각 분야별 국내외 최고의 전문가이신 연사분들 그리고 열정적인 수강생 여러분들과 함께 리소그래피 관련 교육프로그램의 새로운 전통을 만들어가겠습니다. 올해도 반도체 리소그래피 관련 기업인, 연구자, 학생, 그리고 관심있는 일반인 여러분의 적극적인 참여를 요청드립니다.

감사합니다.